Si微粒子を埋め込んだMOS構造の特性

dc.contributor.author	Kunimine, Kosuke / 國峯, 孝祐
dc.date.accessioned	2014-05-16T01:06:38Z
dc.date.available	2014-05-16T01:06:38Z
dc.date.issued	2006-03-23
dc.description	修士（工学）, 2005, 基礎理工学専攻
dc.identifier.uri	http://iroha.scitech.lib.keio.ac.jp:8080/sigma_local/handle/10721/2052
dc.language	ja
dc.publisher	慶應義塾大学理工学研究科
dc.subject	Si微粒子	ja
dc.subject	MOS構造	ja
dc.subject	半導体メモリ	ja
dc.subject	nanocrystalline Si	en
dc.subject	MOS structure	en
dc.subject	memory	en
dc.title	Si微粒子を埋め込んだMOS構造の特性	en_US
dc.title.alternative	Characteristics of metal-oxide-semiconductor structure with nanocrystalline Si	en_US
dc.type	学位論文

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