同位体30Sを用いた高濃度Bドープ中のSi自己拡散(Ⅱ)
| dc.contributor.author | Siti Rahmah Binti Aid / シティ ラハマ ビンティ アイド | en_US |
| dc.date.accessioned | 2014-05-16T01:05:49Z | |
| dc.date.available | 2014-05-16T01:05:49Z | |
| dc.date.issued | 2005-03-23 | en_US |
| dc.description | 修士（工学）, 2004, 総合デザイン工学専攻 | en_US |
| dc.identifier.uri | /sigma_local/handle/10721/1570 | |
| dc.language | jpn | en_US |
| dc.publisher | 慶應義塾大学理工学研究科 | en_US |
| dc.subject | Si self-diffusion | en |
| dc.subject | Si lsotopes | en |
| dc.subject | high concentration doping | en |
| dc.subject | Si自己拡散 | ja |
| dc.subject | Si同位体 | ja |
| dc.subject | 高濃度ドーピング | ja |
| dc.title | 同位体30Sを用いた高濃度Bドープ中のSi自己拡散(Ⅱ) | en_US |
| dc.title.alternative | Si Self-Diffusion under High Concentration B-Doped using 30Si Isotope Heterostructure (II) | en_US |
| dc.type | 学位論文 | en_US |