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水溶液プロセスによる酸化物半導体の合成

dc.contributor.authorUchiyama, Hiroaki / 内山, 弘章
dc.date.accessioned2014-05-16T01:06:36Z
dc.date.available2014-05-16T01:06:36Z
dc.date.issued2005-09-21
dc.description修士(工学), 2005, 総合デザイン工学専攻
dc.identifier.urihttp://iroha.scitech.lib.keio.ac.jp:8080/sigma_local/handle/10721/2007
dc.languageja
dc.publisher慶應義塾大学理工学研究科
dc.subject二酸化チタンja
dc.subject酸化スズja
dc.subject固溶体ja
dc.subject水溶液プロセスja
dc.subjectTitan dioxideen
dc.subjectTin oxideen
dc.subjectSolid solutionsen
dc.subjectAqueous solutionsen
dc.title水溶液プロセスによる酸化物半導体の合成en_US
dc.title.alternativePreparation of Metal Oxide Semiconductors via Aqueous Solution Processen_US
dc.type学位論文

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