量子ドットを目指した微細加工ゲート電極によるGe/SiGeヘテロ構造中2次元正孔ガスの変調

dc.contributor.advisor	牧, 英之 / 准教授
dc.contributor.author	OKAMOTO, HIROSHI / 岡本, 寛史
dc.date.accessioned	2015-11-30T04:08:11Z
dc.date.available	2015-11-30T04:08:11Z
dc.date.issued	2015-03-23
dc.description	修士（工学）, 2014, 総合デザイン工学専攻
dc.identifier.uri	/sigma_local/handle/10721/8641
dc.publisher	慶應義塾大学理工学研究科
dc.subject	量子ドット	ja
dc.subject	Ge	ja
dc.subject	ヘテロ構造	ja
dc.subject	2次元正孔ガス	ja
dc.subject	quantum dots	en
dc.subject	Ge	en
dc.subject	heterostructure	en
dc.subject	two-dimensional hole gas	en
dc.title	量子ドットを目指した微細加工ゲート電極によるGe/SiGeヘテロ構造中2次元正孔ガスの変調
dc.title.alternative	Gate Modulation of Two-dimensional Hole Gas in Ge/SiGe Heterostructures Using Microfabricated Gate Electrodes for Quantum Dot
dc.type	学位論文

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