リモート式大気圧プラズマCVD法を用いた薄膜コーティングボトルの開発
| dc.contributor.advisor | 鈴木, 哲也 / 教授 | |
| dc.contributor.author | YOSHIMURA, SHIMPEI / 吉村, 慎平 | |
| dc.date.accessioned | 2024-05-20T05:11:53Z | |
| dc.date.available | 2024-05-20T05:11:53Z | |
| dc.date.issued | 2023-03-10 | |
| dc.description | 修士（工学）, 2022, 開放環境科学専攻 | |
| dc.identifier.uri | /sigma_local/handle/10721/14645 | |
| dc.language | ja | |
| dc.publisher | 慶應義塾大学理工学研究科 | |
| dc.subject | プラズマCVD | ja |
| dc.subject | ガスバリア性 | ja |
| dc.subject | シリカ系薄膜 | ja |
| dc.subject | コーティング | ja |
| dc.subject | plasma CVD | en |
| dc.subject | gas barrier property | en |
| dc.subject | silicon-based thin films | en |
| dc.subject | coating | en |
| dc.title | リモート式大気圧プラズマCVD法を用いた薄膜コーティングボトルの開発 | |
| dc.title.alternative | Development of thin film coating bottle by remote type plasma enhanced CVD under atmospheric pressure | |
| dc.type | 学位論文 |