シリコン基板上の熱酸化膜中におけるシリコン及びボロンの増速拡散
| dc.contributor.author | Fukatsu, Shigeto / 深津, 茂人 | en_US |
| dc.date.accessioned | 2014-05-09T07:07:11Z | |
| dc.date.available | 2014-05-09T07:07:11Z | |
| dc.date.issued | 2005-03-23 | en_US |
| dc.description | 博士（工学）, 2004, 基礎理工学専攻 | en_US |
| dc.identifier.uri | http://iroha.scitech.lib.keio.ac.jp:8080/sigma/handle/10721/1920 | |
| dc.language | eng | en_US |
| dc.publisher | 慶應義塾大学理工学研究科 | en_US |
| dc.subject | 拡散 | ja |
| dc.subject | 熱酸化膜 | ja |
| dc.subject | 界面 | ja |
| dc.subject | diffusion | en |
| dc.subject | thermal oxides | en |
| dc.subject | interface | en |
| dc.title | シリコン基板上の熱酸化膜中におけるシリコン及びボロンの増速拡散 | en_US |
| dc.title.alternative | Enhanced diffusion of silicon and boron in thermal oxides formed on silicon substrates | en_US |
| dc.type | 学位論文 | en_US |