Formation of Shallow p+/n Junction in Silicon using Non-Melt Laser Annealing

dc.contributor.author	SITI RAHMAH BINTI AID / シティラハマビンティアイド	en_US
dc.date.accessioned	2014-05-09T07:09:11Z
dc.date.available	2014-05-09T07:09:11Z
dc.date.issued	2012-03-23	en_US
dc.description	博士（工学）, 2011, 総合デザイン工学	en_US
dc.identifier.uri	http://iroha.scitech.lib.keio.ac.jp:8080/sigma/handle/10721/2566
dc.publisher	慶應義塾大学理工学研究科	en_US
dc.subject	浅接合	ja
dc.subject	非溶融レーザアニーリング	ja
dc.subject	シリコン	ja
dc.subject	shallow junction	en
dc.subject	Non-melt Laser Annealing	en
dc.subject	Silicon	en
dc.title	Formation of Shallow p+/n Junction in Silicon using Non-Melt Laser Annealing	en_US
dc.title.alternative	非溶融レーザーアニーリングを用いたシリコンにおける浅ｐ+/ｎ接合の形成	en_US
dc.type	学位論文	en_US

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