微結晶シリコン薄膜のプラズマ化学蒸着の数値モデリング
dc.contributor.author | Satake, Koji / 佐竹, 宏次 | en_US |
dc.date.accessioned | 2014-05-09T07:07:11Z | |
dc.date.available | 2014-05-09T07:07:11Z | |
dc.date.issued | 2004-12-08 | en_US |
dc.description | 博士(工学), 2004, 総合デザイン工学専攻 | en_US |
dc.identifier.uri | http://iroha.scitech.lib.keio.ac.jp:8080/sigma/handle/10721/1916 | |
dc.language | eng | en_US |
dc.publisher | 慶應義塾大学理工学研究科 | en_US |
dc.subject | プラズマ | ja |
dc.subject | 化学蒸着 | ja |
dc.subject | モデリング | ja |
dc.subject | 太陽電池 | ja |
dc.subject | 微結晶シリコン薄膜 | ja |
dc.subject | Plasma | en |
dc.subject | Chemical Vapor Deposition | en |
dc.subject | Modeling | en |
dc.subject | Solar Cell | en |
dc.subject | Microcrystalline silicon thin film | en |
dc.title | 微結晶シリコン薄膜のプラズマ化学蒸着の数値モデリング | en_US |
dc.title.alternative | Numerical modeling of plasma enhanced chemical vapor deposition of microcrystalline silicon thin films | en_US |
dc.type | 学位論文 | en_US |