二次元マスクパターンによる微細傾斜形状作製に関する研究
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Date
2008-03-23
Authors
Journal Title
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Publisher
慶應義塾大学理工学研究科
Abstract
Description
修士（工学）, 2007, 基礎理工学専攻
Keywords
substrate penetration lithography, SU-8, fraunhofer diffraction, 基板透過露光, SU-8, フラウンホーファー回析