二次元マスクパターンによる微細傾斜形状作製に関する研究

dc.contributor.author	Onishi, Jumpei / 大西, 淳平
dc.date.accessioned	2014-05-16T01:09:03Z
dc.date.available	2014-05-16T01:09:03Z
dc.date.issued	2008-03-23
dc.description	修士（工学）, 2007, 基礎理工学専攻
dc.identifier.uri	http://iroha.scitech.lib.keio.ac.jp:8080/sigma_local/handle/10721/3775
dc.publisher	慶應義塾大学理工学研究科
dc.subject	substrate penetration lithography	en
dc.subject	SU-8	en
dc.subject	fraunhofer diffraction	en
dc.subject	基板透過露光	ja
dc.subject	SU-8	ja
dc.subject	フラウンホーファー回析	ja
dc.title	二次元マスクパターンによる微細傾斜形状作製に関する研究	en_US
dc.title.alternative	Study of Micro Sloping Structures Fabrication with Two-Dimensional Mask Pattern	en_US
dc.type	学位論文

Files

Now showing 1 - 1 of 1