Alq3膜における表面電位の蒸着条件依存性
dc.contributor.author | Motomura, Genichi / 本村, 玄一 | |
dc.date.accessioned | 2014-05-16T01:06:36Z | |
dc.date.available | 2014-05-16T01:06:36Z | |
dc.date.issued | 2006-03-23 | |
dc.description | 修士(工学), 2005, 基礎理工学専攻 | |
dc.identifier.uri | /sigma_local/handle/10721/2024 | |
dc.language | ja | |
dc.publisher | 慶應義塾大学理工学研究科 | |
dc.subject | Alq3 | ja |
dc.subject | 表面電位 | ja |
dc.subject | ケルビンプローブ法 | ja |
dc.subject | 蒸着速度 | ja |
dc.subject | 基板温度 | ja |
dc.subject | Alq3 | en |
dc.subject | surface potential | en |
dc.subject | Kelvin probe method | en |
dc.subject | deposition rate | en |
dc.subject | substrate temperature | en |
dc.title | Alq3膜における表面電位の蒸着条件依存性 | en_US |
dc.title.alternative | Deposition Condition Dependence of the Surface Potential of Alq3 Films | en_US |
dc.type | 学位論文 |
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