シリコン基板上に形成された絶縁膜の熱特性評価に関する研究
Loading...
Date
2016-03-23
Authors
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Publisher
慶應義塾大学理工学研究科
Abstract
Description
修士（工学）, 2015, 総合デザイン工学専攻
Keywords
界面熱抵抗, 3ω法, FGA, シリコン, 二酸化ケイ素, Interfacial thermal resistance, 3ω method, FGA, Si, SiO2