シリコン基板上に形成された絶縁膜の熱特性評価に関する研究

dc.contributor.advisor	内田, 建 / 教授
dc.contributor.author	KUMADA, ARISA / 熊田, 亜理沙
dc.date.accessioned	2016-10-13T07:14:57Z
dc.date.available	2016-10-13T07:14:57Z
dc.date.issued	2016-03-23
dc.description	修士（工学）, 2015, 総合デザイン工学専攻
dc.identifier.uri	/sigma_local/handle/10721/9216
dc.publisher	慶應義塾大学理工学研究科
dc.subject	界面熱抵抗	ja
dc.subject	3ω法	ja
dc.subject	FGA	ja
dc.subject	シリコン	ja
dc.subject	二酸化ケイ素	ja
dc.subject	Interfacial thermal resistance	en
dc.subject	3ω method	en
dc.subject	FGA	en
dc.subject	Si	en
dc.subject	SiO2	en
dc.title	シリコン基板上に形成された絶縁膜の熱特性評価に関する研究
dc.title.alternative	Study on Thermal Characteristics of the Insulating Film Formed on a Silicon Substrate
dc.type	学位論文

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