2周波容量結合型プラズマによるMEMS加工のモデリング: パターン形状とプラズマインターフェース構造について
dc.contributor.author | Hamaoka, Fukutaro / 濱岡, 福太郎 | |
dc.date.accessioned | 2014-05-16T01:07:53Z | |
dc.date.available | 2014-05-16T01:07:53Z | |
dc.date.issued | 2006-09-21 | |
dc.description | 修士(工学), 2006, 総合デザイン工学専攻 | |
dc.identifier.uri | /sigma_local/handle/10721/3012 | |
dc.language | ja | |
dc.publisher | 慶應義塾大学理工学研究科 | |
dc.subject | MEMS | ja |
dc.subject | 容量結合型プラズマ | ja |
dc.subject | CCP | ja |
dc.subject | 2f-CCP | ja |
dc.subject | モデリング | ja |
dc.subject | MEMS | en |
dc.subject | 2f-CCP | en |
dc.subject | CCP | en |
dc.subject | Capacitively Coupled Plasma | en |
dc.subject | Modeling | en |
dc.title | 2周波容量結合型プラズマによるMEMS加工のモデリング: パターン形状とプラズマインターフェース構造について | en_US |
dc.title.alternative | Modeling of Two Frequency Capacitively Coupled Plasma for MEMS Processing: Influence of a local pattern on interfacial plasma structure | en_US |
dc.type | 学位論文 |