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高純度同位体30Siを用いたSi自己拡散に関する研究
| タイトル: | 高純度同位体30Siを用いたSi自己拡散に関する研究 |
| 著者: | Nakabayashi, Yukio / 中林, 幸雄 |
| 記述: | 博士 (工学), 2002年度, 総合デザイン工学専攻 |
| URI: | http://iroha.scitech.lib.keio.ac.jp:8080/sigma/handle/10721/1773 |
| 日付: | 2003-03-03 |
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