高純度同位体30Siを用いたSi自己拡散に関する研究

Σstar

dc.contributor.author	Nakabayashi, Yukio / 中林, 幸雄	en_US
dc.date.accessioned	2014-05-09T07:06:42Z
dc.date.available	2014-05-09T07:06:42Z
dc.date.issued	2003-03-03	en_US
dc.identifier.uri	http://iroha.scitech.lib.keio.ac.jp:8080/sigma/handle/10721/1773
dc.description	博士 (工学), 2002年度, 総合デザイン工学専攻	en_US
dc.language	jpn	en_US
dc.publisher	慶應義塾大学理工学研究科	en_US
dc.title	高純度同位体30Siを用いたSi自己拡散に関する研究	en_US
dc.title.alternative	Study on Si Self-Diffusion Using Isotopically Pure 30Si Layer	en_US
dc.type	学位論文	en_US

ファイル	サイズ	フォーマット	閲覧
このアイテムに関連するファイルは存在しません。