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銅配線の導入と絶縁膜の低誘電率化によるULSI多層配線の高性能化と高信頼化
| タイトル: | 銅配線の導入と絶縁膜の低誘電率化によるULSI多層配線の高性能化と高信頼化 |
| 著者: | Tada, Munehiro / 多田, 宗弘 |
| 記述: | 博士（工学）, 2007, 総合デザイン工学専攻 |
| URI: | http://iroha.scitech.lib.keio.ac.jp:8080/sigma/handle/10721/2237 |
| 日付: | 2007-08-01 |
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