| dc.contributor.author |
SITI RAHMAH BINTI AID / シティ ラハマ ビンティ アイド |
en_US |
| dc.date.accessioned |
2014-05-09T07:09:11Z |
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| dc.date.available |
2014-05-09T07:09:11Z |
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| dc.date.issued |
2012-03-23 |
en_US |
| dc.identifier.uri |
http://iroha.scitech.lib.keio.ac.jp:8080/sigma/handle/10721/2566 |
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| dc.description |
博士（工学）, 2011, 総合デザイン工学 |
en_US |
| dc.publisher |
慶應義塾大学理工学研究科 |
en_US |
| dc.subject |
浅接合 |
ja |
| dc.subject |
非溶融レーザアニーリング |
ja |
| dc.subject |
シリコン |
ja |
| dc.subject |
shallow junction |
en |
| dc.subject |
Non-melt Laser Annealing |
en |
| dc.subject |
Silicon |
en |
| dc.title |
Formation of Shallow p+/n Junction in Silicon using Non-Melt Laser Annealing |
en_US |
| dc.title.alternative |
非溶融レーザーアニーリングを用いたシリコンにおける浅ｐ+/ｎ接合の形成 |
en_US |
| dc.type |
学位論文 |
en_US |
